[...] Grabado o pulido electrolítico. C25F 3/00' de la CIP.
SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > PROCESOS ELECTROLITICOS O ELECTROFORETICOS; SUS APARATOS (electrodiálisis, electro-ósmosis, separación de líquidos por electricidad B01D; trabajo del metal por acción de una fuerte concentración de corriente eléctrica B23H; tratamiento del agua, aguas residuales o aguas de alcantarilla por procedimientos electroquímicos C02F 1/46; tratamiento de superficies de materiales metálicos utilizando al menos un proceso cubierto por la clase C23 y al menos un proceso cubierto por la presente clase, C23C 28/00, C23F 17/00; protección anódica o catódica C23F; crecimiento de monocristales C30B; por metalización de materias textiles D06M 11/83; decoración de materias textiles por metalización local D06Q 1/04; métodos de análisis electroquímicos G01N; dispositivos electroquímicos de medida, indicación o registro G01R; elementos de circuitos electrolíticos, p. ej. condensadores, H01G; generadores de tensión o de corriente electroquímicos H01M) > PROCESOS PARA LA ELIMINACIÓN ELECTROLÍTICA DE MATERIA EN OBJETOS; SUS APARATOS > Grabado o pulido electrolítico
- Grabado.
- de metales ligeros.
- de hierro o acero.
- de metales refractarios.
- de actínidos.
- de materiales semiconductores.
- Localmente.
- Pulido.
- de metales ligeros.
- de aluminio.
- de metales pesados.
- de hierro o acero.
- de metales refractarios.
- de actínidos.
- de materiales semiconductores.