[...] Preparación de originales para la producción por vía fotomecánica de superficies texturadas (procesos fotomecánicos en general G03F 7/00). G03F 1/00' de la CIP.

SECCION G — FISICA > FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA (reproducción de imágenes o diseños por barrido y conversión en señales eléctricas H04N) > PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G) > Preparación de originales para la producción por vía fotomecánica de superficies texturadas (procesos fotomecánicos en general G03F 7/00)

  • por procesos fotográficos para la producción de originales que simulan el relieve.
  • por procesos de montaje.
  • a partir de superficies de impresión.
  • Originales que utilizan capas inorgánicas que forman la imagen, ej. máscaras al cromo (G03F 1/12 tiene prioridad).
  • por exposición y eliminación de capas orgánicas coloreadas o que contienen pigmentos; por coloración de patrones macromoleculares.
  • por exposición de materiales fotosensibles que contengan halogenuros de plata o de materiales fotosensibles diazotípicos.
  • Originales caracterizados por detalles de estructura, p. ej. soportes, capas de recubrimiento, anillos peliculares.
  • Originales con aberturas, p. ej. para litografía corpuscular.