[...] Preparación de originales para la producción por vía fotomecánica de superficies texturadas (procesos fotomecánicos en general G03F 7/00). G03F 1/00' de la CIP.
SECCION G — FISICA > FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA (reproducción de imágenes o diseños por barrido y conversión en señales eléctricas H04N) > PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G) > Preparación de originales para la producción por vía fotomecánica de superficies texturadas (procesos fotomecánicos en general G03F 7/00)
- por procesos fotográficos para la producción de originales que simulan el relieve.
- por procesos de montaje.
- a partir de superficies de impresión.
- Originales que utilizan capas inorgánicas que forman la imagen, ej. máscaras al cromo (G03F 1/12 tiene prioridad).
- por exposición y eliminación de capas orgánicas coloreadas o que contienen pigmentos; por coloración de patrones macromoleculares.
- por exposición de materiales fotosensibles que contengan halogenuros de plata o de materiales fotosensibles diazotípicos.
- Originales caracterizados por detalles de estructura, p. ej. soportes, capas de recubrimiento, anillos peliculares.
- Originales con aberturas, p. ej. para litografía corpuscular.