[...] Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). G03F 7/00' de la CIP.

SECCION G — FISICA > FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA (reproducción de imágenes o diseños por barrido y conversión en señales eléctricas H04N) > PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G) > Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K)

  • Materiales fotosensibles (G03F 7/12, G03F 7/14 tienen prioridad).
  • Azidas (G03F 7/075 tiene prioridad).
  • Sales de diazonio, o bien compuestos de ellas (G03F 7/075 tiene prioridad).
  • Quinonadiazidas (G03F 7/075 tiene prioridad).
  • Quinonadiazidas macromoleculares; Aditivos macromoleculares, p. ej. aglutinantes.
  • Compuestos fotopolimerizables no macromoleculares que contienen triples enlaces carbono-carbono, p. ej. compuestos acetilénicos (G03F 7/075 tiene prioridad).
  • Compuestos fotopolimerizables no macromoleculares que contienen dobles enlaces carbono-carbono, p. ej. compuestos etilénicos (G03F 7/075 tiene prioridad).
  • con sustancias que aumentan la fotosensibilidad, p. ej. fotoiniciadores.
  • Compuestos inorgánicos; Compuestos de onio; Compuestos orgánicos que contienen heteroátomos diferentes del oxígeno, nitrógeno o azufre.
  • Compuestos orgánicos no cubiertos por el grupo G03F 7/029.
  • con aglutinantes.
  • siendo los aglutinantes polímeros obtenidos por reacciones que hagan intervenir únicamente enlaces insaturados carbono-carbono, p. ej. polímeros vinílicos.
  • Compuestos macromoleculares que se vuelven insolubles o selectivamente mojables (G03F 7/075 tiene prioridad; azidas macromoleculares G03F 7/012; compuestos macromoleculares de diazonio G03F 7/021).
  • Compuestos macromoleculares fotodegradables, p. ej. reservas positivas sensibles a los electrones (G03F 7/075 tiene prioridad; quinonadiazidas macromoleculares G03F 7/023).
  • Cromatos (G03F 7/075 tiene prioridad).
  • Sales de plata (G03F 7/075 tiene prioridad).
  • para difusión por transferencia.
  • Compuestos que contienen silicio.
  • Composiciones fotosensibles caracterizadas por los aditivos macromoleculares que aumentan la adherencia (G03F 7/075 tiene prioridad).
  • caracterizados por detalles de estructura, p. ej. soportes, capas auxiliares (soportes para placas de impresión en general B41N).
  • teniendo más de una capa fotosensible (G03F 7/075 tiene prioridad).
  • con capas de recubrimiento o capas intermedias, p. ej. capas de anclaje.
  • Producción de formas de impresión para serigrafía o de formas de impresión similares, p. ej. clichés de multicopista..
  • Producción de formas de impresión para colotipia.
  • Procesos de recubrimiento; Aparellaje con este fin (aplicación de capas sobre los materiales soporte en general B05; aplicación de capas fotosensibles sobre el soporte para la fotografía G03C 1/74).
  • Recubrimiento de superficies curvadas..
  • Exposición; Aparellaje a este efecto (dispositivos de reproducción fotográfica de copias G03B 27/00).
  • Dispositivos de enfoque, p. ej. automático (posicionamiento y enfoque combinados G03F 9/02; sistemas para la generación automática de señales de enfoque G02B 7/28; dispositivos de enfoque para la reproducción fotográfica G03B 27/34).
  • Exposición simultánea con el mismo motivo luminoso de diferentes zonas de la misma superficie (G03F 7/207 tiene prioridad).
  • Exposición sucesiva con el mismo motivo luminoso de diferentes zonas de la misma superficie (G03F 7/207 tiene prioridad).
  • Superficies curvadas.
  • Tratamiento de materiales fotosensibles; Aparellaje a este efecto (G03F 7/12 - G03F 7/24 tienen prioridad).
  • para obtener imágenes por espolvoreado (G03F 3/10 tiene prioridad).
  • Eliminación según la imagen utilizando medios líquidos.
  • Composiciones líquidas a este efecto, p. ej. reveladores.
  • Eliminación según la imagen por transferencia selectiva, p. ej. por arrancamiento.
  • Eliminación según la imagen no cubierta por los grupos G03F 7/30 - G03F 7/34, p. ej. utilizando una corriente gaseosa, un plasma.
  • Tratamiento antes de la eliminación según la imagen, p. ej. precalentado.
  • Tratamiento tras la eliminación según la imagen, p. ej. esmaltado.
  • Eliminación de reservas o agentes a este efecto.
  • Azidas macromoleculares; Aditivos macromoleculares, p. ej. aglutinantes.
  • Compuestos de diazonio macromoleculares; Aditivos macromoleculares, p. ej. aglutinantes.
  • siendo los aglutinantes poliuretanos.
  • siendo los aglutinantes poliamidas o poliimidas.
  • con sustancias, p. ej. indicadores, para obtener imágenes visibles.
  • con soportes o capas con medios para obtener un efecto de filtro o para aumentar el contacto en la reproducción al vacío.
  • Dispositivos automáticos para este efecto.