[...] Compuestos macromoleculares que se vuelven insolubles o selectivamente mojables (G03F 7/075 tiene prioridad; azidas macromoleculares G03F 7/012; compuestos macromoleculares de diazonio G03F 7/021). 4 Patentes registradas en la sección 'G03F 7/038' de la CIP.

SECCION G — FISICA > FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA (reproducción de imágenes o diseños por barrido y conversión en señales eléctricas H04N) > PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G) > Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K) > Compuestos macromoleculares que se vuelven insolubles o selectivamente mojables (G03F 7/075 tiene prioridad; azidas macromoleculares G03F 7/012; compuestos macromoleculares de diazonio G03F 7/021)

  1. Composición de resina para fotofabricación de objetos tridimensionales
  2. Métodos para producir micropartículas fotosensibles
  3. Composiciones fotocurables catiónicas térmicamente estables
  4. Composición de resina sensible a rayos de energía activa, película de resina sensible...

Composición de resina para fotofabricación de objetos tridimensionales

Tomo 2 de Patentes y modelos de utilidad. de 17 de Noviembre de 2017.

5. solicitudes y patentes europeas con efectos en españa (real decreto 2424/1986) > Protección definitiva > Patentes modificadas tras oposición (art. 7 rd 2424/1986).

ES 2288849 T5

E 00921184 ( 8 )

19/04/1999 JP 11144599

C08F 255/00 (2006.01)

C08G 59/24 (2006.01)

C08F 257/02 (2006.01)

C08G 59/00 (2006.01)

C08F 279/02 (2006.01)

C08F 287/00 (2006.01)

C08G 59/68 (2006.01)

C08G 65/10 (2006.01)

C08G 65/18 (2006.01)

C08L 51/00 (2006.01)

C08L 51/04 (2006.01)

C08L 51/06 (2006.01)

C08L 71/02 (2006.01)

G03F 7/00 (2006.01)

G03F 7/027 (2006.01)

G03F 7/038 (2006.01)

Composición de resina para fotofabricación de objetos tridimensionales

DSM IP ASSETS B.V. (100,0%)

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E00921184 19/04/2000

EP1171502 05/07/2017

Otras apariciones publicadas en el BOPI: Tomo 2 del 24 de Octubre de 2017 5. solicitudes y patentes europeas con efectos en españa (real decreto 2424/1986) > Protección definitiva > Defectos en solicitud de protección definitiva (capítulo v rd 2424/1986).

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Métodos para producir micropartículas fotosensibles

Tomo 2 de Patentes y modelos de utilidad. de 28 de Septiembre de 2017.

5. solicitudes y patentes europeas con efectos en españa (real decreto 2424/1986) > Protección definitiva > Protección definitiva (capítulo v rd 2424/1986).

ES 2634488 T3

E 11708609 ( 0 )

08/03/2010 US 719335

C09K 9/02 (2006.01)

C08G 18/67 (2006.01)

C08G 18/75 (2006.01)

C08G 18/79 (2006.01)

C08G 18/81 (2006.01)

C08F 290/06 (2006.01)

C09D 175/04 (2006.01)

C09D 175/16 (2006.01)

C08G 18/32 (2006.01)

C08L 25/06 (2006.01)

G03F 7/00 (2006.01)

G03F 7/038 (2006.01)

G03F 7/105 (2006.01)

G03C 1/73 (2006.01)

Métodos para producir micropartículas fotosensibles

Transitions Optical, Inc. (100,0%)

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PCT/US2011/025029 16/02/2011

WO11112327 15/09/2011

E11708609 16/02/2011

EP2545140 21/06/2017

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Composiciones fotocurables catiónicas térmicamente estables

Tomo 2 de Patentes y modelos de utilidad. de 01 de Marzo de 2017.

5. solicitudes y patentes europeas con efectos en españa (real decreto 2424/1986) > Protección definitiva > Protección definitiva (capítulo v rd 2424/1986).

ES 2603838 T3

E 07821291 ( 7 )

24/10/2006 EP 06122783

G03F 7/004 (2006.01)

G03F 7/038 (2006.01)

G03F 7/00 (2006.01)

C08K 5/00 (2006.01)

Composiciones fotocurables catiónicas térmicamente estables

BASF SE (100,0%)

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PCT/EP2007/060924 15/10/2007

WO08049743 02/05/2008

E07821291 15/10/2007

EP2076563 17/08/2016

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Composición de resina sensible a rayos de energía activa, película de resina sensible a rayos de energía activa y método para formar un motivo usando dicha película

Tomo 2 de Patentes y modelos de utilidad. de 18 de Marzo de 2016.

5. solicitudes y patentes europeas con efectos en españa (real decreto 2424/1986) > Protección definitiva > Protección definitiva (capítulo v rd 2424/1986).

ES 2564145 T3

E 03766620 ( 3 )

G03F 7/038 ( 2006.01)

Composición de resina sensible a rayos de energía activa, película de resina sensible a rayos de energía activa y método para formar un motivo usando dicha película

Murakami Co., Ltd. (50,0%) y otros

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PCT/JP2003/008539 04/07/2003

WO04013700 12-02-2004

E03766620 04-07-2003

EP1553449 20-01-2016

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