00' de la CIP.

SECCION H — ELECTRICIDAD > TECNICAS ELECTRICAS NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR > TECNICA DEL PLASMA (tubos de haz iónico H01J 27/00; generadores magnetohidrodinámicos H02K 44/08; producción de rayos X utilizando la generación de un plasma H05G 2/00 ); PRODUCCION DE PARTICULAS ACELERADAS ELECTRICAMENTE CARGADAS O DE NEUTRONES (obtención de neutrones a partir de fuentes radiactivas G21, p. ej. G21B, G21C, G21G ); PRODUCCION O ACELERACION DE HACES MOLECULARES O ATOMICOS NEUTROS (relojes atómicos G04F 5/14; dispositivos que utilizan la emisión estimulada H01S; regulación de la frecuencia por comparación con una frecuencia de referencia determinada por los niveles de energía de moléculas, de átomos o de partículas subatómicas H03L 7/26) > Producción del plasma; Manipulación del plasma (aplicación de la técnica del plasma a reactores de fusión termonuclear G21B 1/00)

Disposiciones para confinar el plasma por medio de campos eléctricos o magnéticos; Disposiciones para calentar el plasma (óptica electrónica H01J).
Producción del plasma.
Antorchas de plasma.
utilizando campos electromagnéticos aplicados, p. ej. energía a alta frecuencia o en forma de microondas (H05H 1/26 tiene prioridad).
utilizando campos electrostáticos.
utilizando campos magnéticos sustancialmente generados por la descarga en el plasma.
Dispositivos de retención longitudinal.
Dispositivos de retención theta.
utilizando solamente campos magnéticos aplicados.
utilizando una configuración en aguja (H05H 1/14 tiene prioridad).
en donde el recinto forma un bucle cerrado.
en donde el recinto es recto y tiene un espejo magnético.
utilizando campos eléctricos o magnéticos.
en donde los campos oscilan a muy altas frecuencias, p. ej. en la banda de microondas.
Calefacción óhmica.
para calefacción por inyección.
Disposiciones para el enfriamiento.
utilizando campos electromagnéticos aplicados, p. ej. energía a alta frecuencia o en forma de microondas (H05H 1/28 tiene prioridad).
utilizando un arco (H05H 1/28 tiene prioridad).
Detalles, p. ej. electrodos, toberas.
Disposiciones de circuitos (H05H 1/38, H05H 1/40 tienen prioridad).
Guiado o centrado de electrodos.
utilizando campos magnéticos aplicados, p. ej. para enfocar o para hacer girar el arco.
con disposiciones para la introducción de materiales en el plasma, p. ej. polvo, líquido (pulverización electrostática, aparatos de pulverización con medios para cargar eléctricamente el pulverizante B05B 5/00).
utilizando varias antorchas.
utilizando un arco (H05H 1/26 tiene prioridad).
y utilizando campos magnéticos aplicados, p. ej. para enfocar o para hacer girar el arco.
utilizando hilos explosivos o espinterómetros (H05H 1/26 tiene prioridad; espinterómetros en general H01T).
Aceleradores de plasma.